主要规格及技术指标

1. 多功能样品台：X、Y、Z向移动、倾斜及旋转；
2. 单色化X射线源：最大功率300W，源束斑尺寸连续调动范围200μm~900μm；
3. 成像XPS:＜6μm成像区域溯源获谱；束斑面积：20μm~900μm，调节步长50μm；
4. 能量分析器：能量扫描范围1~5000eV，能量最小扫描速率0.001eV/s；
5. 电中和系统：同轴电子枪低能模式能量范围0~5eV，高能模式能量范围0~1000eV；
6. 离子刻蚀枪：单离子模式刻蚀能量500eV~4keV连续可调；团簇模式刻蚀能量2keV~8keV；

主要附件及配置

无

主要功能及特色

1. 常规XPS：鉴别样品表面的元素种类、化学价态以及相对含量；
2. 深度剖析XPS：结合离子刻蚀技术实现样品表面清洁与刻蚀，得到表面及不同深度分布的元素信息结合，进行成分深度分布分析；
3. XPS成像：对元素或化学态进行表面面分布分析；
4. 反射电子能量损失谱REELS：获得氢元素的检测、价带信息；
5. 离子能量损失谱ISS：样品表面元素信息的检测、同位素元素的检测；
6. 紫外光电子能谱UPS：获得样品价带谱信息，对导体、半导体的能带、带隙等分析提供主要数据；