磨盘:转速10~500 rpm,调整增量≤10 rpm,可顺时针和逆时针旋转;直径≥250 mm,自带底盘冷却功能。转速30~60 rpm,调整增量≤10 rpm,可顺时针和逆时针旋转。单独力加载时可同时卡持1~6个样品
无
主要用于微区原位制样系统,对样品进行抛光处理